El sustrato cerámico de nitruro de silicio presenta numerosas ventajas, como alta resistencia, alta tenacidad y excepcional conductividad térmica (130W/(m-k)). Además, su coeficiente de expansión térmica se asemeja estrechamente al de los semiconductores Si, SiC y GaN. En consecuencia, el sustrato cerámico de nitruro de silicio es una elección ideal para encapsular módulos de alta potencia, lo que lo hace ampliamente considerado la opción de sustrato cerámico más adecuada.
Nuestra empresa utiliza el proceso de nitruración directa para producir polvo de silicio de alta pureza. A través de nuestra tecnología patentada única, controlamos el material de silicio, el proceso de nitruración y el proceso de refinado para preparar polvo de nitruro de silicio CF-HJ con alta pureza, alto contenido de fases, distribución estrecha del tamaño de partículas y una actividad de sinterización excepcional. Este tipo de polvo de nitruro de silicio ha eliminado de hecho monopolios extranjeros y puede servir como un sustituto totalmente viable del polvo de nitruro de silicio importado del mismo nivel de calidad.
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Ítem de prueba |
Unidad |
Rango de índices |
Equipo o método de prueba |
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α fase |
% |
≥90 |
Difractómetro de rayos X JC/T 2342-2015 |
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Fe |
ppm |
≤200 |
Método de absorción atómica ISO10058-3:2008 |
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Al |
ppm |
≤200 |
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Ca |
ppm |
≤200 |
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N |
% |
≥38,5 |
Aparato de nitrógeno Kjeldahl GB/T 16555-2017 |
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Frss Si |
% |
<0.2 |
Methpd volumétrico de gas GB/T 16555-2017 |
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C |
% |
≤0.10 |
Analizador de carbono infrarrojo de alta frecuencia GB/T 16555-2017 |
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D50 |
μm |
≤0,9 |
Analizador láser de tamaño de partículas GB/T19077-2016 |
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O |
% |
≤1.4 |
Método de conductividad térmica infrarroja por pulso de gas inerte GB/T 16555-2017 |
